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研磨拋光機通過研磨介質與工件的相對運動，以消除表麵劃痕、毛刺等缺陷，實現平整、光滑甚至鏡麵效果，該設備廣泛應用於光學、航空、汽車、模具、寶石以及所熟知的五金行業，是提升產品表麵質量的關鍵設備。

一、核心技術原理

基於“機械摩擦 + 研磨介質雙管齊下”，核心環節如下：

1.運動係統驅動：以旋轉式為主，電機驅動研磨盤（轉速 0-80r/min）旋轉，工件通過夾具固定，高配置的機台還搭配了主驅動係統，確保產品研磨的一致性。

2.壓力調節技術：壓力範圍 0-150KG，可氣動 / 砝碼自動調節，需按工件材質、加工精度要求，加工工藝來決定，高端設備配壓力傳感器穩壓。

3.研磨盤和研磨液的適配：研磨盤和研磨液材質的選用，粒徑的大小以及配方的擬定，都需要根據產品的詳細要求和參數來調配，兩者需要匹配才能達到最佳研磨的效果。

二、典型應用場景與技術適配

1.金屬加工：不鏽鋼用金屬 / 樹脂結合劑的磨盤 + 專用拋光劑（研磨壓力10-30KG、轉速 20-40r/min；拋壓 20KG、轉速 5-20r/min）；鋁合金用氧化鋁磨料 +聚氨酯拋光墊（壓 15-30KG、轉速15-35r/min）。

2.半導體材料：樹脂結合劑的磨盤 + 金剛石研磨液（研磨壓力2-20KG、轉速 20-40r/min；拋壓 20-30KG、轉速 5-20r/min）；氧化鋁/二氧化矽 +聚氨酯拋光墊（壓 5-20KG、轉速5-25r/min）。